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NMR 常见杂质溶剂峰速查表

产物 ¹H NMR 中出现的多余峰,多数来自后处理和柱层析残留的溶剂。对照下表可快速判断杂峰来源。 数据参考:Fulmer, G. R. et al. *Organometallics* 2010, 29, 2176。

简介

产物 ¹H NMR 中出现的多余峰,多数来自后处理和柱层析残留的溶剂。对照下表可快速判断杂峰来源。

数据参考:Fulmer, G. R. et al. *Organometallics* 2010, 29, 2176。

如何去除残留溶剂

数据表

杂质CDCl3 (ppm)DMSO-d6 (ppm)
水1.563.33
丙酮2.172.09
乙腈2.102.07
乙酸2.101.91
二氯甲烷5.305.76
氯仿7.268.32
乙酸乙酯2.05, 4.12, 1.261.99, 4.03, 1.17
乙醚3.48, 1.213.38, 1.09
乙醇3.72, 1.253.44, 1.06
甲醇3.493.16
四氢呋喃3.76, 1.853.60, 1.76
甲苯2.36, 7.17–7.252.30, 7.11–7.25
DMF8.02, 2.96, 2.887.95, 2.89, 2.73
DMSO2.622.50(溶剂峰)
三乙胺2.53, 1.032.43, 0.93
正己烷 / 油脂1.26, 0.881.24, 0.86

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